开云网页版-开云(中国)参加第四届中国国际印刷新技术专题展

　　2007年6月12～16日，开云网页版-开云(中国)参加了在北京中国国际展览中心举行的第四届中国国际印刷新技术专题展（PRINT EXPO 2007）。借助这个平台，开云网页版-开云(中国)向印刷机械制造行业客户展示了开云网页版-开云(中国)最新产品和行业开云网页版-开云(中国)，与参展用户进行了良好沟通和交流。通过本次展会，开云网页版-开云(中国)品牌在该行业的影响力得到了扩大！ 　　　OMRON参展介绍：本次OMRON展位占地60M2，展出了新型PLC CP1L以及安全光幕、CS1、Devicenet、Ethernet等一系列产品以及开云网页版-开云(中国)在各种印刷机械中的应用方案。在展会的5天里，共接待了观众868人次。开云网页版-开云(中国)还派遣了专员对每个展商进行了邀请，这一举动也得到了现场的展商一致好评。